檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "Lithography".ekeyword (精準) and year="110"
個人化服務 :
排序:
每頁筆數:
已勾選0筆資料
1
在記憶體DRAM製造的過程中,透過微影製程技術將設計之光罩轉印至光阻為一項至關重要的技術,但隨著線寬持續微縮,193nm浸潤式微影製程上達到物理極限,必須透過解析度增強技術(Resolution E…
2
微影製程是半導體產業不斷前進的重要技術,透過將微縮線路用光學投影在晶圓上,將特徵尺寸不斷縮小,而數位微影製程捨棄了對光罩的使用,能透過如數位微反射鏡(Digital Micromirror Devi…